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ASML著急的原因找到了,中企正式公開EUV光刻機核心專利
2022/08/19
2022/08/19

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EUV光刻機是制造尖端芯片的核心設備,目前只有荷蘭的ASML能夠制造,因此其地位也被拱的非常的高,雖然壟斷了全球市場,但使用了大量的含美技術,其并不具備自主的經營權。

EUV光刻機作為迄今為止最復雜的工業設備,技術和零部件遍布二十多個國家,因此誕生十余年來,除了ASML之外,沒有第二家能夠生產,這也導致中企至今都無法獲取任何一台。

在老美不斷升級芯片限制之后,國內意識到了問題的嚴重性,中科院牽頭開始研發EUV光刻工藝,目前已經突破了多項核心技術,就在近日中企再次公布了一項EUV核心專利,ASML著急出貨還有用嗎?

核心技術專利公布

原本能夠生產光刻機的企業還不少,但經過老美的一邊扶持、一邊打壓,ASML逐步成為了「獨樹一幟」般的存在,很多企業也試圖攻克光刻機技術,但缺少了美技術體系的支持,最終都失敗了。

EUV光刻機有超過90%以上的技術和零部件,都要依賴于全球供應鏈,ASML核心技術占比不到10%,因此更準確的來說,用「組裝廠」來形容更加的貼切。

ASML的CEO曾大放厥詞:「就算把圖紙擺在面前,我們也制造不出來!」實際上這句話說的一點也不夸張,一個國家想要獨立完成EUV光刻機的建設,就目前而言無異于天荒夜譚。

一台EUV光刻機的成型,集結了多少科研人員的努力,而國內想要完成自主國產化,除了要研發核心技術之外,還要想辦法繞開層層包裹的專利體系,要知道至少有超過20%的專利是老美參與的。

完全實現所有技術和零部件的國產化,在有限的時間內幾乎不可能,但我們至少保證的是能夠繞開美技術體系,要在不侵權的情況下,完成核心技術專利部分的突破,而中企已經逐步實現了這個目標。

就在近日,中企上海傳芯半導體公布了EUV光刻機核心專利,這也一下子吸引了整個市場的目光,這項專利名為「曝光成像結構、反射式光掩模版組及投影式光刻機」。

這對于國內光刻機研發而言,又是一次質的飛躍,專利能夠申請下來,所以說明已經繞開了美技術體系,這項專利也被證實可用于EUV光刻,能夠有效提升分辨率和對比度,實現對光刻工藝的簡單化。

ASML拼命討好還有用嗎

在被限制的三年時間里,中科院臨危受命,牽頭開始全力沖刺光刻技術,目前在三大核心技術上均已實現了突破,同時上海微電子已經具備有28nm沉浸式DUV光刻機的組裝工藝,距離國產化已經不遠了。

ASML從此前的不屑一顧,逐步開始著急了,不斷的警示老美:「持續限制出口光刻機給中國市場,不出3-5年的時間,自以為先進的技術將會被替代!」

同時ASML也在行動上給予回應,在不違規的情況下全力布局中國市場,不僅建立了研發中心,同時還加大了對中國員工的招聘,僅僅在第一季度就向中企出貨了28台光刻機,累積達到了78台。

ASML這一舉動雖然有清理庫存的意味,但對它們而言是一堆「破銅爛鐵」,對于彼時的國內半導體產業而言,卻也還是彌足珍貴的,有錢賺自然他們會加速出貨。

但放下了此前高傲的姿態,開始不斷的討好中國市場,除了為了賺錢之外,顯然是感受到了一定的壓力,面對中企不斷實行的技術突破,ASML也持續加大了技術研發方面的投入。

目前老美還有意,將光刻機的限制范圍升級到DUV光刻機上,一旦成功實施的話,屆時ASML很有可能失去中國市場,這對于ASML的營收是極其不利的。

畢竟能夠制造7nm及以下工藝的企業有限,目前也只有台積電和三星能夠做到,而先進工藝的市場需求本身就不大,因此EUV光刻機是有飽和度的,后續的營收還得靠DUV來實現。

目前ASML也做好了另外一層打算,那就是推動更為先進的NA EUV光刻機的發展,目的就是為了讓現階段的EUV光刻機,不再被定義為最先進,根據《瓦爾森》條約的規定,不是最先進的技術是可以自由出貨的。

雖然ASML持續示好中國市場,但未來我們是可預見的,不能一味的依賴于外海技術,或者說在產業鏈內至少要有拿的出手的核心技術,這樣才能夠得到等價互換和尊重,對此你們是怎麼看的?

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