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美企推出0.768nm工藝!成功繞開ASML的EUV光刻機?要降維打擊了
2022/10/01
2022/10/01

近日一則消息引燃了科技圈,美企Zyvex Labs 推出了名為「ZyvexLitho1」的系統,宣稱是全球分辨率最高的光刻系統,并表態可以實現0.768nm芯片制造,并且不需要依賴ASML的光刻機。

而有意思的是,在整個半導體領域在摩爾定律極限上掙扎,都在想著如何突破1nm工藝時,卻傳出了這樣一則消息,這確實也夠「打臉」各大芯片企業的,難道所有芯片廠商的努力都白費了?

那麼ASML的新一代NA EUV光刻機研發,是否還存在意義呢?這項技術中的0.768nm,又是否和傳統理解中的制程工藝是一致的呢?

最強光刻機誕生?

目前已經實現量產的工藝為3nm,但由于在成本方面無法有效控制,台積電不得不延遲到明年量產,但三星采用全新GAA工藝打造的3nm工藝,預計會在今年量產,但可惜良品率只能達到15-20%左右,因此依然會面臨成本過高的問題。

目前5nm的芯片搭載在手機上使用,已經出現了性能過剩的問題,但即便如此台積電、三星還是執著于先進技術研發,畢竟兩家企業互為「死對頭」,誰能掌握先進的技術,就能夠更好的占據市場份額,由此也形成了「畸形」的產業發展。

兩家企業在明爭暗斗,受益最大的自然是ASML,作為唯一能夠制造EUV光刻機的廠商,為了迎合它們的競爭,也在不斷的研發更高端的光刻機, 其中最新研發的0.55NV EUV光刻機,預計會在2024年正式上市,這款光刻機是可支持3nm以下芯片制造的。

ASML的技術是否夠突破納米極限的倚仗,但能否制造出1nm以下的芯片,還得看台積電、三星有沒有這個能耐了,目前台積電迎證實,最先進的工藝可被突破到1.4nm,但要說再往下發展,誰都不敢打包票了。

就在全球半導體陷入困境之際,美企Zyvex一下子給全球帶來了希望,直接將制程工藝帶入了埃米級別,這家企業主營業務為開發和商業化原子精密制造(APM)技術,推出的「ZyvexLitho1」是目前分辨率最高的亞納米光刻系統。

證實可以制造出僅有0.768nm線寬的芯片,比起現階段的3nm技術,可以說是跨層級的突破,但ASML并沒有就此別打敗,因為而這采用了完全不一樣的技術,這家美企采用的是電子束光刻技術,可以說是兩種概念。

半導體技術涉及大量的資本支出與長期研究,目前這項技術還處于理論實驗階段,而一向新技術從提出到最終商業化,平均的時間為10-15年,因為對于目前的半導體產業而言并不會產生什麼波動。

半導體研發方向是否會改變

雖然ZyvexLitho1系統目前還無法真正商用,但其的確做到了EUV光刻機做不到的事,如果這行技術真的實現了,那對于國產半導體而言,絕對是一個不利的消息,那是夠會成為老美「降維打擊」的工具呢?

當然是存在這種可能的,但目前Zyvex所使用的EBL電子束光刻機,雖然有了一定的雛形,但要實現最終的商用,還要滿足于「規模」量產這個條件,而恰巧這項技術不適合量產,只能用于制造少量高精度的芯片。

但我們也不能就此放松,因為技術是與時俱進的,如果我們在自研技術上不下功夫,終究還是要吃大虧的,而Zyvex這項技術所針對的實際上是尖端的量子計算機領域,中國在這方面的技術并不弱,但一旦在高精度芯片問題上出問題了,后果將不堪設想。

行業教授Michelle Simmons 也表態:「量子計算機有著很大的可擴展性,全部潛力要想發揮出來,高精度的制造是必須的!」而「ZyvexLitho1」系統也將成為第一個提供原子精度圖案化的商用工具。

在傳統工業上我們已經落后了,但在這前沿科技的發展上,我們和歐美國家處于同一個水平,量子技術將成為未來科技的主要競爭領域,每天都會有全新的技術誕生,國內科研人員在提防的同時,也要拿出相對應的研究態度。

通過總結的話,我們可以得知,這項所謂的新技術,暫時還不會對全球半導體的格局產生什麼影響,這其中所實現的0.786nm工藝,也和傳統的5nm、3nm有著很大的區別,對此你們是怎麼看的?

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