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日企突破5nm芯片制造設備,或將解決中企「EUV光刻機」供應問題
2022/11/14
2022/11/14

在不斷升級的芯片規則下,中企在半導體領域舉步維艱,每一項技術都要實現自主化,否則隨時都有被斷供的可能性,無法很好的聯動國際供應鏈,導致無法突破先進工藝制造瓶頸。

而真正「卡住」國內企業的是光刻技術,目前就連DUV光刻機都要高度依賴于ASML,而最先進的EUV光刻機更是被限制進口,這也出現了兩極分化的狀態,在芯片設計上已經突破了5nm水準,但在制程工藝上僅為14nm。

ASML被老美施壓斷供DUV光刻機,但卻以強硬的拒絕了,顯然已經嗅到了「危險信號」,日企佳能開建全新的光刻機產能,宣稱已經突破了5nm芯片的制造技術,中企的「EUV光刻機」供應問題能解決了?

佳能擴建光刻機產能

在相關限制啟動的三年時間里,中國半導體產業迎來了飛速發展,全產業鏈的配套技術,都有相應的企業在研發,只要國產的光刻機能夠到位,就能夠實現14nm以上的產能自主化,在見到這樣的情境之后,老美也徹底開始著急了。

對于現階段的處境而言,想要期待老美放開EUV光刻機的限制,可以說基本上不可能,因此擺在我們面前的只有兩條路,要麼自研自產高端的光刻機,要麼就得尋找不含美技術的廠商。

目前國內僅能實現90nm光刻機的量產,如果按照ASML的老路走的話,沒有國際供應鏈的支持,想要突破到滿足7nm以下芯片制造的光刻設備,就算能夠實現也需要很長的時間,相對而言第二種就比較容易實現,而日企佳能就給我們帶來了好消息。

日本的半導體產業也曾盛極一時,當時的美企和日企根本就不在同一個層次上,但也正因為如此遭到了老美的打壓,雖然如今自主化產能僅維持在30nm左右,但良好的技術底蘊還在,佳能、尼康更是被稱之為「光刻機鼻祖」,這幾個字眼就足以說明一切了。

就在近日外媒傳出了消息,日企佳能的光刻機新工廠已經開建,正式投產之后將會誕生低成本的先進芯片制造設備,很有可能就是2021款的納米壓印光刻機的升級版,能夠突破到14nm線寬的分辨率,足以滿足納米芯片的生產需求。

而目前ASML的EUV光刻機,也差不多就這樣的水平,要生產5nm以下的芯片,就需要依靠新一代的NA EUV光刻機,才能達成更好的效果,因此這次佳能的突破,相當于已經打破了ASML對于EUV光刻機的壟斷。

目前在成熟工藝上,國內基本能夠實現自給自足了,但在先進工藝上,依然要依賴于美企的進口,如果佳能的新型的光刻機能夠出口,這方面的顧慮也就迎刃而解了,那究竟日企的先進設備,能夠正常的出貨到中國市場呢?

佳能能否出貨中企

ASML雖然壟斷了全球EUV光刻機市場,但如果沒有老美技術的推動,是不可能達到這個高度的,因此目前也成為了一顆「棋子」,只是這顆「棋子」最近有點叛逆,但終究逃不過被掌控的命運。

而佳能就不一樣了,在被打壓的幾十年里相對低調,但在技術底蘊上還是非常深厚的,日企在半導體領域一直堅持「一體化模式」,在研發、設計、材料、設備、制造等等方面,一直都是堅持自主化,而光刻膠壟斷了全球95%的市場,就很好的證明了其「野心」。

佳能技術的完全自主化,是不受相關限制困擾的,而不斷的擴充產能,很明顯就是為中國市場準備的,不然沒有任何一個國家有這樣的消耗能力,雖然表面上跟著老美要限制中國半導體產業,但背后卻時刻打著「小算盤」。

找老美游說佳能、尼康限制出貨時,兩家企業并沒有給出實質性的回應,而日本方面也僅僅表態:「正在考慮可跟進的限制措施。」顯然他們根本就不可能放棄對中國市場的布局。

中國市場有重要,從ASML的態度轉變中就能看到出來,從不屑一顧到百般討好,到后面的全面傾銷DUV光刻機,為了保住中國市場份額,選擇了和老美硬鋼,因此日企愿意放棄才怪了。

如果佳能的5nm光刻機設備,能夠暫且出貨給中企,是能夠有效緩解對美企芯片依賴的,這對于國內半導體產業發展而言是有利的,但我們也不能放棄自主研發,核心技術掌握在自己手上,才能夠徹底的解決問題,對此你們是怎麼看的呢?


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