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國產光刻機,僅達到90nm,已成芯片制造的最大短板了
2022/08/25
2022/08/25

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眾所周知,中國大陸的芯片產業要發展,與台灣、與韓國、與日本、歐洲、美國等國家和地區的情況都不一樣,復雜很多。

像台灣、韓國、日本等地,要發展芯片產業,是整合全球的供應鏈,買最先進的產品,再整合起來就行,真正的全球一體化。

但中國大陸要發展芯片產業,全球一體化只是想一想而已,需要的是全國產產業鏈的崛起,因為美國一直想方設法的卡著我們發展芯片產業的「脖子」,特別是一些先進的設備,就不允許賣到中國大陸來,全球一體化實現不了。

所以一直以來,國產芯片供應鏈都是在負重前行,先解決從0到1的問題,再從1慢慢發展到10,最終達到全球頂尖水平,與國際巨頭扳手腕。

那麼問題來了,當前國產半導體設備中,技術最先進的是哪一種,技術相對最落后的又是哪一種呢?

上圖這張圖,其實說得非常明白了。刻蝕機應該是當前國產半導體設備中,唯一達到國際先進水平的,已經達到了5nm。

這家公司就是中微公司,其生產的刻蝕機,早就實現了5nm,被台積電、中芯等晶圓廠使用。

事實上,刻蝕機之前也是被美國禁運的,但隨著中微公司的先進刻蝕機后,禁運也就沒意義了,于是放開了市場,中國廠商可以隨便買。

而技術相對落后的則是光刻機了,目前上海微電子生產的光刻機,其標注的精度還在90nm。而ASML的光刻機,已經能夠生產3nm的芯片了,這中間的差距還是相當大的。

也正因為光刻機技術差距大,所以目前光刻機是禁運的,比如EUV光刻機美國就不準ASML賣到中國大陸來,為的就是阻止我們進入到7nm。

前段時間還傳出美國要對14nm及以下的設備下手,實行禁運,原因就是國內的設備,能夠實現14nm以下節點不多,更多的還處于14nm、28nm階段。

可見,光刻機已經成為了當前我們制造芯片的最大短板了,所以國產光刻機真的要努力才行,不說實現5nm,先實現28nm,再搞定14nm,先實現與其它國產半導體設備一個節點才行,你覺得呢?

而只要國產半導體設備有了突破,達到先進水平,禁運也就沒有了任何意義,也就會全面放開了,刻蝕機就是最好的例子。

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