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28nm!清華大學就國產光刻機正式發聲,倪光南院士沒說錯
2022/06/25
2022/06/25

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眾所周知,自從老美多次修改芯片規則以后,就直接打亂了全球芯片市場的發展規則,并讓我國的華為等科技企業的發展受到了很大的影響,這些年來,國內科技企業的發展一直都依賴于從國外進口的芯片,這也讓我們很容易被人卡脖子發展,為了避免被卡脖子,最近這幾年國內也開始加快了國產化的芯片供應鏈體系的建設!

ASML的光刻機無法自由出貨,倒逼著我們不得不加快國產光刻機的研發

而我們要想打造出屬于我們自己的國產芯片供應鏈體系,那麼首先要解決的就是光刻機這一卡脖子的難題,要知道,沒有先進的光刻機,就無法生產出先進的半導體芯片來;而在光刻機領域,又幾乎都被荷蘭ASML公司所壟斷,在老美的限制下,ASML公司的光刻機也無法做到自由出貨,所以這也倒逼著我們不得不加快國產光刻機的研發!

國內在光刻機領域發展迅猛

實際上,在光刻機領域,我們并非是一片空白,國內的上海微電子、清華大學和中科院都很早就展開了對光刻機等卡脖子技術的研發,隨著國內機構和科技企業的不斷努力研發,如今在光刻機領域,我們也迎來了一個又一個的好消息,像光刻機的物鏡和曝光系統供應商國望光學就已經取得了巨大的進展,并開始準備進入試產,而在國產浸潤系統方面,我們也已經開始投入運營!

28nm!清華大學就國產光刻機正式發聲

在有了這些核心關鍵技術的突破以后,國內就離先進的光刻機更進一步了;值得一提的是,最近我國清華大學就國產光刻機也正式發聲,清華大學方面應邀發表了關于高端光刻機光柵定位與套刻測量技術的發展論文。其中清華大學方面表示:我國在14n以下工藝制程領域依然需要依賴國外進口的光刻機,而這也就意味著國產光刻機已經跨越了關鍵的28nm工藝門檻,而現在來看,這一切也似乎都已經變成了現實!

要知道,在國產光刻機領域,我國的上海微電子很早就研發出了國產光刻機,像其研發的SSA600/20光刻機就使用了193納米的波長,最大分辨率為90nm;而前布局上海微電子方面也表示已經突破了28nm光刻機技術;只不過我們一直都沒有看到量產,現在從清華大學方面的消息來看,關于國產光刻機,我們似乎已經開始下探到了14nm技術,這也說明在28nm領域,我們已經取得了成功,量產也只是時間問題!

倪光南院士沒說錯

在看到國內光刻機市場快速發展起來以后,就連荷蘭ASML公司也開始加快了在中國市場的布局,如今中國市場已經成為了ASML的最大市場,其市場份額高達34%,這也說明ASML正在加快在中國上次的發展,而這一切也都是因為我們國內的光刻機發展的迅速,讓ASML也感覺到了壓力;而這也驗證了國內院士倪光南所說的話:在核心技術領域,靠錢是買不來的,我們只有掌握了自主研發的核心技術,那麼市場才會主動送上門來,如今我們已經掌握了光刻機的相關技術,而ASML也很快就轉變了態度,不知道對此你是怎麼看的呢?

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