眾所周知，中國這幾年在科技領域的發展速度還是十分迅猛的，在華為、阿里等眾多科技企業的不斷帶領下，國內在5G、云計算、人工智能AI技術等很多前沿科技領域都取得了領先的優勢；隨著中國科技企業的不斷崛起，老美也感受到了一定的威脅和挑戰；為了維護自己的科技霸主地位，老美不惜多次修改芯片規則，想要在半導體芯片領域對我們卡脖子發展！
要知道，中國雖然是全球最大的生產制造基地，但是半導體芯片領域的發展卻一直都是國產科技企業發展的短板，這些年來，中國科技企業發展所需的芯片也幾乎都是依賴于從美國進口而來，在老美修改芯片規則以后，美企高通、英特爾等企業就紛紛做出了斷供的決定，這也讓國產科技企業的發展受到了很大的影響，而全球芯片市場也因此迎來了大洗牌。
當國內科技企業在半導體芯片領域的發展短板暴露以后，無數的中國科技企業也紛紛開始覺醒，并開始加快在芯片領域的發展；為了解決光刻機等卡脖子的技術難題，我國的華為、清華大學、哈工大，以及中科院等企業個機構都展開了相關項目的研發，經過這幾年的努力，如今也終于要開始反擊了，哈工大 自研技術打破光刻機壟斷，日企、荷企始料未及！
作為我國頂級的學府之一，哈工大也曾遭到了斷供，為了解決國產科技企業被卡脖子的難題，哈工大也一直在對EDA軟件，以及光刻機等核心技術進行研發，近日，哈工大傳來好消息：哈工大自研的高速超精密激光干涉儀已經取得成功，并可以適用在350nm-28nm的光刻機上，這也意味著我們在光刻機的核心光源技術領域取得了突破，并打破了日本、荷蘭光刻機企業的壟斷！
光刻機作為生產半導體芯片的必要設備，它的研發也是非常重要的；這些年來，全球的光刻機市場幾乎都被荷蘭ASML以及日本的佳能和尼康所壟斷；在我國表示要進入光刻機領域發展的時候，荷蘭ASML公司曾表示：就算是公開圖紙，你們也造不出來；但讓日企、荷企始料未及的是，這麼快中國科技企業就突破了光刻機的核心技術；除了光源系統以外，我國在物鏡和雙工件台領域也取得了突破，而這三大技術則是光刻機的三大核心技術，如今我們都已經實現了突破！
綜合來看，中國這幾年一直在加快半導體芯片領域的發展和布局；為了打造出屬于我們自己的國產半導體芯片產業鏈，國內不僅有華為、哈工大、清華大學等眾多的企業和機構在加快核心半導體技術的研發，而且國內還在加大對半導體人才的培養，隨著國內科技企業對半導體的研發越來越重視，中國市場也正在吸引很多芯片相關的頂尖人才加入，我們相信要不了多久，國內科技企業就能完成「去美化」發展，不知道對此你是怎麼看的呢？
