美一直都想全面限制ASML出貨光刻機，盡管其百般努力，但ASML仍官宣繼續向國內廠商出貨光刻機。
光刻機是制造芯片的必要設備，尤其是芯片進入14nm時代后，ASML研發制造的光刻機基本上占領了市場。
其中，DUV光刻機主要是生產28nm以下制程的芯片，EUV光刻機主要是生產制造7nm以下制程的芯片，雖然尼康也能夠生產DUV光刻機，但產能遠低于ASML。
但ASML的EUV光刻機量產后，美就用瓦森納協定限制EUV光刻機出貨，導致國內廠商全款訂購的EUV光刻機至今都沒到貨。
芯片規則修改后，ASML的DUV光刻機也受到了約束，但ASML仍繼續向國內出貨，并表示對全球廠商一視同仁，加大對國內市場的布局。
由于DUV光刻機能夠生產28nm-7nm工藝芯片，美又一心想封鎖14nm以下工藝，不僅對ASML展開新一輪游說，還搞四方芯片聯盟。
關鍵是，美還拉上日荷簽訂了三方協議，目的限制先進光刻機等設備出貨。
據悉，日方面已經宣布從今年春季開始限制相關半導體設備出口；荷蘭則表示將配合美，從今年夏季開始對相關半導體設備進行出口管制。
結果就在美以為目的達成之際，ASML卻通過官網宣布，荷蘭限制先進光刻機等設備出口，主要是指型號為2000i及后續型號，不包含1980Di型號的DUV光刻機。
ASML還表示1980Di型號的DUV光刻機仍可以繼續出貨，其單次曝光精度為38nm，在多種曝光工藝下，芯片制程可以縮小至7nm，台積電當年就是這麼干的。
ASML官宣可以繼續出貨部分型號的DUV光刻機，這意味著美竹籃打水一場空，ASML事件塵埃落定了。
其實，ASML的態度一直都堅定，就是要持續向國內廠商出貨光刻機等設備。
美修改芯片規則，ASML表示在美生產制造DUV光刻機需要許可，其它地區則不需要，ASML短時間內就向國內廠商出貨數百台DUV光刻機。
美游說ASML，希望其進一步收緊國際主流光刻機的出貨范圍，結果被ASML拒絕，同時，ASML還進一步擴大DUV光刻機等設備的產能，預計2025年量產超600台。
另外，ASML還明確表示不是不出貨EUV光刻機，而是因為瓦森納協定，目前可以繼續出貨的1980Di光刻機，也是可以將芯片制程縮小到7nm。
還有一點就是，美持續修改芯片規則，欲全面切斷14nm以下芯片工藝，結果還是被國內廠商突破了。
華為已經正式發布了暢享60系列手機，其采用的就是麒麟710A芯片，該芯片由國內廠商采用14nm工藝制造的。
徐直軍也明確表示，華為芯片設計EDA工具團隊聯合國內EDA企業，共同打造了14nm以上工藝所需EDA工具，基本實現了14nm以上EDA工具的國產化。
也就是說，在14nm工藝方面，國內廠商基本上已經解決了問題，而更先進的芯片工藝，國內廠商已經小規模試產N+1工藝，7nm也完成了研發任務。
ASML又明確可以繼續出貨部分DUV光刻機，其能夠將芯片制程縮小至7nm，工藝和設備具備的情況下，結果可想而知。
所以才說美竹籃打水一場空，ASML事件塵埃落定了。對此，你們怎麼看。
