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ASML擔憂的事發生!納米壓印技術被突破,EUV光刻機地位遭遇挑戰
2022/08/26
2022/08/26

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芯片規則不斷的升級,老美也親手打破了自己創立的「科技無國界」論,在感受到美技術體系不可靠之后,各個國家和地區就開始明里暗里啟動芯片的自研自產,美企一手「好牌」也就此打爛了。

ASML、台積電作為老美手上最大的兩顆「棋子」,如果按照目前的趨勢發展下去的話,遲早都會有被用「廢」的一天,雖然光刻機是造芯不可獲取的設備,但并不意味著永遠不可替代。

目前東京理科大學的學者,成功實現了對于納米壓印技術的突破,并且已經被證實可用于10nm以下芯片的生產,目標直指ASML的EUV光刻機,那這項技術有什麼用呢?又是否會對ASML造成困擾?

納米壓印技術突破

最頂尖的EUV光刻機,擁有這超過數十萬的零部件,而其中又有超過80%需要依賴國際供應鏈,難以突破也正是因為這個原因,因此嚴格意義上來講,ASML也只能算的上是一家組裝廠。

7nm及以下的芯片制造,就需要用到EUV光刻機,目前ASML是唯一能夠制造的企業,因此經常被各大芯片廠商奉為「座上賓」,也就此完全壟斷了全球市場,在市場上占據這絕對的主動權。

但在老美升級芯片限制后,ASML的實際地位就發生了改變,不僅失去了EUV光刻機的自由出貨,就連DUV光刻機也有可能被進一步限制,從當初對國產光刻機研發的不屑一顧,轉變為可以討好中國市場。

在中科院的領頭之下,不斷在光刻機核心技術上實現突破,也給足了ASML壓力,但不可否認想要完全實現光刻機自主化,是需要得到全球供應鏈支持的,也難怪當初ASML會說:「就算給我們圖紙,我們也制造不出來!」

而ASML的嘚瑟也持續不了多久時間了,根據近期傳來的消息,東京理科大學的學者,已經成功解決了納米壓印技術方面的難題,實現了紫外硬化納米壓印(UV-NIL)創建10納米以下分辨率形貌的突破。

之前未能實現突破10nm以下分辨率,是受限于光刻膠材料方面的因素,該團隊已經實現對光刻膠材料的優化升級,闡明了光刻膠分子成分與壓印過程的作用機制,成功驗證了適用于UV-NIL工藝的光刻膠材料。

而UV-NIL工藝一直都備受關注,不需要高溫高壓的條件,也讓其在低成本的狀態下,實現媲美光學光刻質量圖形的潛力,而在2021年的時候這項技術就已經實現了商用,成功實現了15nm芯片的量產。

ASML擔憂的事在發生

ASML還沒有解決光刻機的自由出貨問題,如今卻被告知已經有可替代的技術,而且能夠實現10nm以下的芯片制造,這對企業而言無疑是雪上加霜,危機正在一步步靠近。

不過UV-NIL工藝也存在一定的問題,納米壓印過程簡單點來理解的話,就是一個蓋章的過程,把提前設計好的電路圖,直接印在晶圓上,但由于是和光刻膠直接接觸的,所以會導致模板的使用壽命有限,如果沒有及時更換的話,很容易造成刻印芯片出現問題。

而光刻機則類似于「照相機原理」,因此在零部件上的損耗是比較小的,但目前納米壓印技術處于初期階段,就已經能夠達成這樣的效果,給足夠的時間進行深入研發,未必不能解決這些實質問題。

對于動輒上億美元的EUV光刻機,納米壓印技術整體的產能布局過程,在成本上肯定是更具備有優勢,而且這項技術同樣也可以利用到極紫外光線,在實現10nm以下工藝之后,是可以和現階段技術進行無縫銜接的,后續的流程幾乎是一致的。

而造成技術的突破因素,自然是因為光刻機無法自由出貨,三年的時間足以改變很多了,老美直接切斷了全球芯片供應鏈,各個國家只能夠奮起直追,研發屬于自己的核心技術,ASML這一次被坑慘了。

目前日企尼康以及佳能,又宣布重新進入光刻機市場,在封裝光刻機上ASML已然沒有了優勢,外加上NIL工藝的誕生,ASML如果不能盡快實現EUV光刻機的自由出貨,等待它的是什麼可想而知。

目前就連台積電也開始暗中研發先進封裝工藝,芯片堆疊工藝已經用在了蘋果芯片上,所以證明根本不存在所謂的堅實盟友,所有關系都是建立在利益之下的,對此你們又是怎麼看的呢?

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