在日本之后,中國也發布新型光刻機,ASML加快對中國出口光刻機

過人君 2023/01/08 檢舉 我要評論

由于美國的影響,ASML對中國出售光刻機一直都在搖擺之中,不過2022年底至少有三家中國芯片企業獲得ASML的光刻機,顯示出ASML的態度再次發生變化,導致如此結果或許在于中國近期宣布的新型光刻機。

一、開辟芯片制造新技術

說到繞開ASML的光刻機開發芯片制造新技術,當然得說日本,日本最先研發成功繞開光刻機的芯片制造工藝,日本研發的芯片制造工藝被稱為NIL技術,該項技術已被日本的存儲芯片企業鎧俠采用,據稱日本已將該技術發展到10nm工藝,預計可以進一步拓展到5nm工藝。

相比起采用ASML的光刻機生產的芯片制造工藝,NIL技術的成本更低,畢竟一台EUV光刻機的價格高達1.2億美元,而第二代EUV光刻機價格更將高達近4億美元,昂貴的成本讓全球都非常關注日本的NIL工藝。

中國開發新型光刻機,則在于ASML對中國的光刻機供應總是在改變,受美國的影響,ASML至今都未向中國企業供應EUV光刻機;2022年下半年在美國的要求下,ASML又暫停供應14nm以下的DUV光刻機。

面對ASML的態度,中國一直都在力求研發新型光刻機,日前中科院光電所就研發了名為超分辨率光刻機,可以實現22nm工藝,目前該項技術還在提升之中,還花時間進一步改進以取得經濟性生產成本,不過這一消息對ASML無疑是巨大的刺激。

二、ASML的態度發生變化

ASML曾揚言,即使給中國圖紙也生產不出光刻機,因為光刻機是一個高精密的機器,需要全球產業鏈的配合,DUV光刻機需要數萬個零部件,而EUV光刻機更要近10萬個零部件,需要全球5000家廠商共同參與。

中國作為後來者,具有光刻機生產能力的企業有上海微電子等企業,上海微電子一直都在力推14nm光刻機,不過由于光刻機需要國內產業鏈的配合,僅是靠上海微電子自己的技術是不可能生產出來的,因此這幾年中國一直都在推進光刻機產業鏈的完善。

除了研發傳統的光刻機技術之外,開發新的技術也是中國芯片行業努力的方向,畢竟日本已研發的NIL工藝已證明了這是一條可行的道路,而超分辨率光刻機的研發成功就代表著中國在研發芯片制造工藝方面取得了進展。

中科院光電所的成果讓ASML轉變了態度,ASML高管早前就表示只要給予時間,中國遲早能研發成功先進的光刻機;同時ASML表示它是一家歐洲企業,不應該受美國的影響,荷蘭外貿大臣也表示支持ASML爭取自由出貨的權利。

促使ASML轉變態度的原因還有全球芯片市場的變化,從2022年下半年以來全球芯片行業出現過剩,連最大芯片代工廠台積電都關停了幾台EUV光刻機降低生產成本,如此情況下中國以外的市場對光刻機的需求大減,中國這個在繼續推進芯片產能擴張的市場對ASML來說可謂雪中送炭,ASML自然希望從中國市場獲取更多收入。

如此也就不奇怪ASML在2022年底突然加快對中國出售光刻機了,畢竟它擔憂中國的新型光刻機很快量產,到那時候就不需要ASML的光刻機,如今加緊出貨能賺一分是一分,還能幫助它過冬。

ASML的態度變化說明了中國芯片行業還是需要自立自強,只要我們取得技術突破,那麼海外高科技產品對中國市場就會迅速放松,乃至降價銷售,不過即使如此我們還是應該推進光刻機技術,正如知名院士倪光南所說,先進技術是買不來的、求不來的,只有我們自己取得進展,將核心技術掌控在手里,才不會處處受制于人。


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