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好消息,華為公開EUV光刻機專利,這是要放棄「幻想」了?
2022/11/19
2022/11/19

大家都知道,芯片問題不僅是我國半導體產業鏈急需解決的難題,而且還是橫在華為手機業務發展之路上最大的「籬笆」。可以說,如果國產芯片的問題得到解決,那麼華為就有可能引領中國高科技走向世界巔峰。

當然,這不是無腦的「吹捧」,這是事實。要知道,華為是一家充滿創新科技的民族企業,無論是在5G通訊領域,還是在芯片設計領域,或者是在人工智能和操作系統領域等,華為都有拿得出手的核心技術。就拿5G通信技術來說,華為擁有全球數量最多的5G專利,任何國家和企業都不可能繞過華為5G專利打造5G網絡服務。

除此之外,海思設計團隊也是華為手中的一張王牌。曾幾何時,全球第一顆5G SOS級芯片就是由海思設計出來的,華為手機業務之所以能快速崛起也是因為有海思麒麟9000芯片的加持。

然而,由于中芯國際等國內芯片制造商缺乏EVU光刻機設備,導致其無法為華為代工麒麟9000芯片,從而使台積電成了華為唯一的選擇。可是,自從芯片規則被修改后,台積電也變得「身不由己」,華為手機業務從此失去了競爭力,很快掉落第一梯隊。

盡管如此,華為任正非還是明確表示,華為不會放棄海思,允許其繼續攀登高峰,而華為則在山下種土豆,將源源不斷的養分輸送給海思。甚至連華為輪值董事長徐直軍都曾表示,對海思沒有盈利要求,繼續養著這支隊伍做開發,為未來做準備。

讓人感到振奮的是,就在近日,華為突然公開了一項名為「反射鏡、光刻裝置及控制方法」的EUV光刻機專利。據悉,該專利可以很好地解決相關技術中因相干光形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題。

那麼問題來了,華為為什麼要下場做光刻機?其實答案很簡單,華為已經認清了現實,并放棄了對海外企業的幻想,與其等待美國「解禁」ASML的EUV光刻機,還不如自己研發。

要知道,光刻機的制造難度非常大,一台光刻機的零部件就多達10萬個,而且還需要全球5000多家供應商提供。關鍵是,截止到目前,還沒有任何一家企業可以獨立完成EUV光刻機的制造。

但是不要忘了,自從華為事件之后,國內市場就開始加碼對光刻機的研發,同時也取得了不錯的成績。比如南大光電自主研發了ArF國產光刻膠;華卓精科實現了國產雙工作台的技術攻關;國望光學的曝光光學系統研發基地項目也已經落地;北京科益虹源的光源系統等等。

不得不承認,只靠華為一家公司做光刻機肯定是行不通的。而目前國內市場需要一家可以做領頭羊的廠商,把所有制造光刻機的產業鏈整合,只有這樣才能更快、更穩地補齊短板。

很顯然,華為就是那家所謂的「領頭羊」公司,原因無他,華為要人才有人才,要資金有資金,要技術有技術,要品牌號召力也不輸國內任何科技企業。

最主要的是,華為還擁有芯片疊加、光子芯片、超導量子芯片等多種多樣的芯片專利。可以說,華為比任何一家企業都想解決高端芯片的問題。

所以,筆者完全相信,在華為多管齊下的研發策略之下,再加上國產供應鏈形成合力,國產光刻機一定會早日實現突破。對此,你們怎麼看?

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