要想生產制造芯片，就必須用到光刻機，但美一直都在限制ASML出貨，還拿出了三方協議進一步限制ASML出貨DUV光刻機。
據了解，在出貨方面，ASML一直都不愿意配合美，其多次明確表示，將向國內廠商提供其能夠提供的一切技術，并對全球廠商一視同仁。
美對ASML游說，希望其進一步收緊國際主流光刻機的出貨范圍，結果被ASML拒絕。
美日荷簽訂三方協議后，ASML率先透露這一消息，表示6月份前才會立法落地，目的就是希望有需要的廠商盡早下單。
不僅如此，ASML還通過官網表示，三方協議限制2000i和2050i型號的DUV光刻機，1980Di型號的DUV光刻機將會持續出貨，該光刻機在多重曝光技術下，能將芯片縮小至7nm。
另外，ASML總裁還來華參加中國高層發展論壇，并強調，如果不是瓦森納協定，中國將會成為EUV光刻機最大的消費市場。
也就是說，ASML明確繼續出貨DUV光刻機，該設備也是可以用于7nm等工藝，但中芯國際卻出現了幾個奇怪情況。
首先，中芯國際不作聲。
ASML表明態度，將持續向國內廠商出貨DUV光刻機等設備，最大贏家應該是中芯國際，但中芯國際卻默不作聲。
要知道，中芯國際大規模擴產28nm等成熟工藝的芯片，提升14nm等先進工藝產能，都需要用到DUV光刻機。
另外，中芯國際已經完成了7nm研發任務，而DUV光刻機在多重曝光工藝下，是可以將芯片制程縮小至7nm。
其次，中芯國際不再提及7nm等先進工藝。
中芯國際已經能規模量產14nm以上工藝的芯片，還小規模試產了N+1工藝的芯片，但中芯國際卻一直都提及28nm等工藝的芯片。
例如，中芯國際表示28nm等成熟工藝的風險進一步降低；在已經量產的芯片中，中芯國敢于同國際大廠相比較。
但中芯國際卻很少提及14nm/N+1等工藝，即便是3年前就完成研發任務7nm工藝，中芯國際也不再提了。
最后，不再提及購買光刻機事宜。
要知道，中芯國際曾一次性購買11億美元的光刻機等，還將2022年的資本開支從50美元，提升到66億美元，目的也是購買先進設備。
如今，三方協議將落地，ASML也表示可以繼續出貨，但卻沒有中芯國際購買光刻機的消息了。
畢竟，2000i和2050i型號的DUV光刻機，6月份后將不能出貨，而這兩款設備是EUV光刻機的過渡產品。
對于中芯國際出現的這幾個奇怪情況，或許就是因為中芯國際想低調一些，畢竟，美一直都在修改芯片規則，一次比一次限制范圍更大，中芯國際低調也是為了發展需要。
另外，美計劃鎖死14nm以下工藝，而中芯國際已經掌握14nm/N+1等工藝，但為了發展，中芯國際最好就低調，畢竟，畢竟部分設備還是需要進口。
還有一點就是，中芯國際將重點放在成熟工藝擴產上，但沒有忘記先進工藝的研發推進，只不過是默默推進，韜光養晦。
