壓力山大!過度封鎖不可取,美媒:EUV光刻機變得不那麼重要了

過人君 2023/01/05 檢舉 我要評論

老美本以為封鎖打壓,就能夠遏制中國的芯片半導體發展,然而結果卻讓它意料未及。華為被「四面圍堵」后,不僅沒有倒下,反而越戰越勇。

就在日前,網上更是傳出了華為紫外光刻技術專利,這也導致荷蘭ASML股價一路下滑。其實這也證實了,不管是ASML還是老美,都開始承受「過度封鎖」的副作用。

中國每年進口芯片和半導體設備就高達數千億美元,但老美卻為了自身利益,一刀切斷了全球芯片半導體這條供應鏈,這意味著整個行業的發展都將會「葬送」在老美手上。

這也是為何這兩年ASML一直游走在中美之間,因為ASML也明白了中國市場的重要性。

其實談到ASML,它也開始把路走窄了,以為不向中國市場出售EUV光刻機,就能夠拿捏中芯發展。

結果呢,ASML首席執行官直接透露:中國在未來3~5年就能夠掌握光刻機技術,當下美國隊中國進行封鎖打壓都是徒勞。

ASML雖然是全球唯一一家能夠生產出EUV光刻機的廠商,但背后也是離不開美國的核心技術和資本支持。

要知道EUV光刻機的生產需要十多萬的零部件,而且是由英特爾牽頭成立的組織,前后花費了6年的時間才得以研發出來。因為那個時候美國的光刻機企業已經衰落,又不希望日本的尼康進來,所以最后只能讓ASML上位。

當然了,ASML在老美的技術援助下,取得了重大突破,以至于這背后需要聽從老美的指揮。

比如簽訂相關的技術保護條款,比如以后55%的光刻機配件都需要從美國購入,比如要聽從美國相關的芯片半導體規則……

有了技術支持后,ASML也是一路順風順水,這幾年不斷擴產研發,從2018年的22台增長到去年的42台。而且還計劃在2025年之前實現出貨90台EUV光刻機。

然而,隨著「摩爾定律」接近天花板,ASML的EUV光刻機紅利也開始見底。ASML首席技術官曾透露,EUV光刻機技術即將來到鏡頭,之后的High-NA EUV技術還行得通,但Hyper-NA根本實現不了。

也就是說,ASML再往下走技術提升不大,但成本卻要翻倍。據了解今天一台EUV光刻機需要1.2億美元,3nm的晶圓成本也去到了2萬美元。如果還繼續往下走,那成本必然是高的嚇人。

如此一來,也開始呈現出眾多「取代」ASML EUV光刻機的新技術。除了華為先前放出的光電芯片、量子芯片以外,還有日本的NIL納米技術也是備受關注。

作為昔日的光刻機巨頭佳能,顯然是不甘心被ASML一家獨大,所以很多年前就開始與鎧俠聯合研發,推出了代替ASML EUV光刻機技術的納米壓印技術。

據了解在2017年,鎧俠就已經啟動了納米壓印技術的設備測試運行工作,直到今天已經支持15nm工藝制程,預計在2025年就能推出與ASML EUV光刻機同台競爭的設備。

除此之外,美國的企業也是在不斷研發。在2022年的10月份,美國企業就放出了全球最高分辨率的光刻系統,造出了0.768nm的芯片。當然了,這技術還存在缺陷,只能適用于小批量量子芯片生產。

最重要的是越來越多的廠商,開始借助先進的芯片封裝技術去提高芯片性能。不管是之前台積電的3D Fabric聯盟,還是美光那DRAM,都是非常好的例子。

而且在小芯片生態上,也越老越多的國家開始投入研發,我國也在前段時間正式通過了小芯片技術標準。

說白了,越來越多的國家和企業都在繞開ASML的EUV光刻機進行研發創新,因為華為之后,任何人都看清了真相,與其在過度依賴ASML的EUV光刻機,還不如加大力度投入研發。

這也是為何外媒開始感慨:EVU光刻機開始變得不那麼重要了。畢竟隨著老美不斷加重對中芯的封鎖,而ASML如果還跟在后面不自知,那麼中國很快就能擺脫ASML的依賴,到那個時候ASML就只能眼睜睜看著中國從合作伙伴變成競爭對手了!


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