EUV光刻機將突破出貨封鎖了?新廠正式開始擴建,或將專供中企

過人君 2022/11/15 檢舉 我要評論

目前光刻機還是制造芯片必不可少的設備之一,7nm及以下的高端芯片更是需要頂尖EUV光刻機才能夠制造出來。正是因為缺少EUV光刻機,所以國內的芯片制造技術一直遲遲無法突破,被卡在了14nm上面。近日,有相關媒體報道,日本光刻機企業佳能的新工廠已經正式開始建立,而最重要的是,根據佳能方面透露出的消息來看,這個新工廠很可能是為了制造新一代的光刻機而建立的。

本次佳能所要制造的新光刻機設備是2021納米壓印光刻機的升級版本,該版本能夠達到14nm的線寬分辨率,能夠應用于5nm的芯片制程當中,從某種程度上來說這種光刻機和EUV光刻機差不多。

除了佳能在光刻機領域即將實現新的突破之外,佳能還曾表示,將會加碼中國市場的布局,并且打算讓更多的中國用戶了解佳能。這無疑是在表示,將會與尼康一起進入中國市場,與ASML互相競爭。

如果上述所說的消息都實現了的話,那麼無疑是說明中國即將會獲得一批高性能光刻機,并且借此再次突破芯片工藝制程。

缺少高端光刻機,中國芯片發展的一大痛點

因為起步較晚的緣故,中國芯片在高端芯片領域的競爭力一直不強,再加上ASML被美從中干預無法自由出貨EUV光刻機,導致中企一直被卡脖子,很難制造出來高端的芯片。

由于芯片制造是一個全球分工的產業,目前還沒有哪個企業或是國家地區能夠獨立制造出芯片,就連以全產業鏈發展著稱的台灣在光刻機制造方面也發展緩慢。因此,在無法獲得國外技術、產品、設備幫助的情況之下,中國半導體產業也只能做到生產14nm的芯片。

相比較于芯片設計、芯片架構、芯片封裝、測試等環節而言,由于缺少光刻機設備的支持,中國半導體產業在芯片生產這一環節目前還有些遜色。可以說,缺少高端的光刻機對于中國芯片發展而言,無疑是一大痛點。

如何解決光刻機的問題,也成為了如今國內芯片行業發展的一大難題。想要解決這個問題,只有兩個辦法,一是自主研發出高端的光刻機,二是尋找除了ASML之外其他的光刻機途徑。佳能在高端光刻機上的技術突破以及打算進軍中國市場,無疑是一個很好的機會。

佳能新廠開建,或將專供中企?

因為依賴美技術的緣故,ASML一直缺少自主權,只能按照美的要求限制光刻機的出貨,但是對于技術自主的佳能而言,則沒有這方面的顧慮。在面對美要求限制光刻機出貨的時候,佳能并沒有正面回應,而是表示將會加碼對中國市場的布局,并且想讓更多的中國客戶認識他們。這無疑是在表示,不會限制光刻機出口中國。

日本半導體技術還是很強大是,在上個世紀八十年代的時候,甚至一度超越了歐美、日韓等國,成為了全球芯片出口數量最多的國家,并且在多個領域都有豐厚的技術積累。只不過后來因為美方的貿易壁壘,導致日本的芯片在國外的競爭力受到限制,才有了美芯片企業的崛起。

在ASML出現之外,日本的尼康和佳能堪稱世界上頂尖的光刻機企業,哪怕是如今,也仍然占據了全球第二和第三的位置。從這一點來看,就能夠看出來尼康和佳能的實力強勁,因此佳能新一代的光刻機能夠實現5nm制程是很有可能的。

事實上,尼康和佳能與中國企業的合作不在少數,一直以來就有中國企業購買佳能和尼康的光刻機,而且在前一段時間的中企設備招標上,尼康和佳能也獲得了不少的訂單,而ASML卻一單都沒有拿下。

另外一方面,由于ASML目前在國際上的影響力極強的緣故,佳能新一代的光刻機很難尋找到歐美、韓台等國家或是地區的客戶,而中國企業則是佳能最有可能獲得的客戶,因此佳能建廠擴建生產出新一代的光刻機,在短時間之內很有可能是專供中企的。對于佳能而言,想要獲得客戶,擴大影響力,而對于中企而言,想要獲得高端光刻機,兩者的需求是吻合的,達成合作的可能性也就變高了很多。

總結:

對于中企而言,這無疑是一件好事,因為廠商之間競爭者多了,作為客戶自然能夠獲得更多的利益,而高端光刻機又是目前急需的,只不過對于ASML而言,這就不是什麼好消息了。


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