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2028實現光刻機自研,可支持7nm芯片制造!俄羅斯真有這個能耐?
2022/10/25
2022/10/25

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在芯片規則不斷的升級之下,各個國家不再相信基于美技術體系的國際產業鏈,而中、俄是產業被限制最嚴重的國家,因此在技術的自研上反應也是最強烈的,在中企相繼傳出好消息之后,俄科學院也官宣了好消息。

根據海外傳來的消息,俄科學院IPF RAS已經全力參與光刻設備的研發,后續將會有整套的半導體設備誕生, 并且其還高調宣稱:「自研的光刻機將在2028年商用,并且可用于7nm左右的芯片量產!」

這就讓人納悶了,目前俄國依靠自主化的產業鏈,就連90nm工藝都無法完成,此前更是宣稱實現28nm工藝,也要等到2023年,如今卻宣稱2028年就能實現7nm工藝了,這真的有可能嗎?

俄半導體產業的現狀

在當前的特殊形勢之下,俄半導體的現狀要比中國更加嚴峻,在芯片規則的不斷升級之下,蘋果、高通、AMD、英特爾、台積電、三星等等企業相繼斷供,可以說整個國家的芯片供應渠道都被切斷了,俄科學院只能緊急啟動了自研計劃。

在早前俄羅斯曾公布了一項計劃,預計會在2022年底完成90nm芯片的自主化,在2023年實現28nm芯片自研自產,但顯然這樣的預估過于保守了,從技術角度上來講,利用8年時間實現這個目標難度不大。

俄羅斯科學院也并非浪得虛名,在很多的頂尖技術上都曾和老美掰過手腕,就拿航天航空技術來講,國際很多國家的衛星發射都要依賴于俄羅斯,但可惜進入到21實際之后,國家整體經濟蕭條,沒有那麼多的資金用于科研項目,才導致如今的困局出現。

如果沒有外來的芯片進入,俄羅斯滿打滿算僅能制造出65nm的芯片,并且這還要依賴于海外的半導體設備才能實現的,因此可以說目前的形勢相當嚴峻,而光刻機是核心的芯片制造設備,自然是首要攻克的目標。

根據俄科學院IPF RAS的介紹,他們將會利用6年的時間制造出工業原型,首台alpha 機器將會在2024年誕生,其也透露初期階段的工作,主要是完善系統的全面性,重心并不在于設備上的突破。

到了2026年新研發的Beta將實現對于alpha的替代,到達這個階段所有的系統都差不多整備完畢了,基本上許多的操作流程都能實現自動化了,屆時在分辨率和生產力上也將得到很大的提升,這個階段就可以實現設備的融合調試,將集成運用到實際技術操作流程中。

最后就到了最為關鍵的光源融入階段,這也是光刻機最為核心的技術,好在俄羅斯在X射線光源技術上,有著完全自主可控的技術,此前也證實了相應的可行性,在進行改良升級之后,一整套的光刻機就能夠正常投入使用了!

俄科學院能成功嗎?

在面臨全面制裁之后,俄國內的芯片極度短缺,所有的芯片圓晶廠都停止了供應,雖然本土對制程工藝要求不高,但面對僅能實現的65nm制程工藝,針對現階段的工藝水平確實不夠看,俄科學院也加大的對人才的培養,試圖擺脫這樣的困境。

俄羅斯科學院院士也表態:「ASML近20年來追求的是生產效率,EUV曝光機很好的幫助全球半導體廠商實現了技術精進,但目前的俄羅斯并不需要太先進的工藝,根據自己實際需求跟進就好!」

但在這樣的消息傳出之后,海外媒體沒有一家看好俄羅斯,都認為這樣的計劃不可能實現,畢竟此前沒有任何的技術基礎,6年時間完成7nm芯片光刻機的突破,顯然是有點不切實際了,就連ASML都用了將近20余年的時間。

而中國參與光刻機的研發,也已經有很長一段時間了,至今還未能達到28nm的水平,因此基本上是不可能的,況且光有光刻機還不夠,還需要需要配套設備,以目前俄羅斯的狀態,想要從國際供應鏈獲取根本不可能。

而且除了有設備之外,還需要晶圓廠的配合,目前俄羅斯本土并沒有這樣的企業,因此按照此前2030年實現28nm芯片自主化,相對而言還是比較符合實際現狀的。

俄科學院下諾夫哥羅德代表團所演示的光刻設備,目前還只是設備的原型,可以說還處于「PPT」階段,后續還要進行開發、制造以及安裝,并沒有想象中的那麼簡單,對此你們是怎麼看的呢?

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