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國產光刻機迎來好消息,中企突破核心技術,外媒:這是關鍵
2022/06/16
2022/06/16

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關于光刻機,近日有個情況值得關注,就是我們大陸在今年第一季度成了ASML的第一大市場,占比升至34%,出貨約21臺光刻機,這在ASML出貨史上從未有過。

當然,這肯定不包括EUV,主要是DUV及其他光刻機。ASML大量出貨到大陸并不簡單,可能是獲悉了某些情況。近日,國產光刻機迎來好消息,中企突破核心技術。

DUV同樣非常重要

由于高端芯片制造我們目前還解決不了,主要依賴臺積電、三星。因此,大家對EUV光刻機的關注較多,但ASML被限制出貨給中企,所以大愛呼吁突破國產EUV。

但這事急不得,因為EUV匯集了全球多項最頂尖的技術,需要一步一步逐個突破。

再說,盡管EUV光刻機是生產7-3nm制程的重要設備,但之前臺積電就用DUV做出過7nm,甚至技術大佬林本堅還表示DUV也能做出5nm,可見DUV也很重要。

即使臺積電、三星的7nm、5nm都用上了EUV,但也只是用在了關鍵層,很多非關鍵層還是用DUV來完成。為什麼這樣呢,當然是為了降低成本,因為EUV太貴了。

光刻機按光源可以分為高端EUV、中端DUV、低端UV三大類。EUV我們也在努力突破,低端的i-line、g-line光刻機我們完全可國產,下面重點介紹下中端的DUV。

DUV基本可分為KrF、ArF、ArFi三種。KrF波長248 nm,可實現180-130 nm。ArF波長193 nm,可實現130-65 nm。ArFi波長193等效134nm,可實現65-7 nm。

ArFi波長等效134nm,是因為加入了浸潤式光刻機技術,臺積電技術專家林本研發的,稱之為濕式的光刻技術。之前是干式的光刻技術,即ArF。可見,ArFi更為先進。

ArFi算是DUV光刻機中最先進的,正是臺積電、三星產線中配合EUV生產的DUV。

那麼,我們的國產光刻機目前進展到了哪一步呢?從上海微電子的官網上看,KrF和ArF光刻機都可正常出貨,ArF已經可以做到90nm,下一步就是突破ArFi光刻機。

中企突破核心技術

因此,我們一直在說的國產光刻機正在攻堅28nm,其實就是加入浸潤技術的ArFi。

之前有消息傳出,上海微電子將于2021-2022年交付第一臺28nm工藝的國產沉浸式光刻機。前段時間,美媒又報道,我們國產先進光刻機有望于今年年底前交付。

那麼,到底能不能如期交付呢?最近,有網友從知情人士得到消息,現在確實在集中攻堅,還調集了相關部門高級研發人員,已經在聯合攻關,爭取盡快實現突破。

具體能不能實現,要看幾大核心部件和技術是否突破。重點有六大部分:雙工件臺、曝光光學系統、投影物鏡、ArF準分子激光器、浸液系統、高速高精度檢測系統。

北京華卓精科的雙工件臺、長春國科精密的曝光光學系統、北京國望光學的投影物鏡、北京科益宏源的ArF準分子激光器、東方晶源高速高精度檢測系統,都已經突破。

第五項浸液系統,近日又傳來好消息,浙江啟爾機電在浸潤系統上取得重大突破。

浸液系統是浸沒式光刻機的四大核心部件之一,該技術一直以來掌握在少數國際巨頭手中。為實現突破,啟爾機電承擔了浸沒式光刻機浸液控制系統的國產化重任。

自2004年開始,啟爾機電就開始對光刻機浸液系統進行基礎研究和技術攻關,如今獲得了光刻機浸液系統直接相關的發明專利56項,為國產光刻機突破奠定了基礎。

這樣的話,六大核心部件和技術均已突破,剩下的就是合圍,進行整體磨合突破了。

照此看來,之前外媒報道的年底前交付,也就是還有6個月,還真有可能猜對了!

28nm可以說是一個重要的光刻機節點,重點就是加入浸潤技術。一旦這個實現了國產突破,那麼接下來再實現先進的7nm就容易多了,基本上就是更新迭代的問題了。

重點是,這些突破還將為下一步實現國產EUV打下堅實基礎,道路將越走越順了!

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