芯片已經是當下最重要的元器件，美一直都在芯片方面封鎖技術，防止被其它國家超越。
華為5G技術領先后，美就要求本土運營商和盟國放棄華為5G設備和技術，華為發布巴龍5000等5G雙模芯片后，打破了高通在通訊芯片方面的領先優勢。
美就開始修改芯片規則，限制高通等美企向華為出貨，隨后還限制台積電等芯片制造企業出貨，甚至還對ASML等先進光刻機廠商進行限制。
無論是台積電還是ASML，都明確反對美修改芯片規則，也反對限制廠商出貨，稱這不僅會破壞全球芯片貿易，加速各國發展本土芯片制造技術，甚至會影響芯片技術發展。
即便如此，美仍執意修改芯片規則，不僅進一步約束高通、ASML等出貨，還與日荷簽訂了三方協議，進一步限制半導體設備出貨。
面對這樣的情況，ASML和台積電突然都翻臉了，但結果有點大跌眼鏡。
首先是ASML方面。
三方協議簽訂后，日方面就表示將會從今年春季開始限制相關設備出貨，荷蘭也表示，將會從今年夏季開始，配合美進行相關半導體設備的出口管制。
這意味著ASML研發制造的DUV光刻機等設備也將進一步受到約束。
但ASML卻通過官網表示，荷蘭方面限制先進半導體設備出貨，并非全部設備，主要是型號為2000i及以后的DUV光刻機，這些產品是EUV光刻機的過度機型。
但型號為1980Di型號的DUV光刻機仍可以出貨，其單次曝光精度為38nm，能夠滿足國內廠商發展的需求。
因為該光刻機在多種曝光工藝下，可以將芯片制程縮小到7nm，台積電當年就是采用該光刻機量產了第一代7nm芯片。
要知道，國內廠商已經掌握了多種曝光工藝，并且用該工藝量產了14nm、N+1等工藝的芯片，更何況，國內廠商已經完成了7nm工藝的研發任務。
其次是台積電。
芯片規則修改后，張忠謀一直與美唱反調，不僅表示美修改規則破壞全球芯片貿易，還稱美連續投資超500億美元也不可能打造出來完整的芯片產業鏈。
關鍵是，張忠謀公開表示美想通過補貼打造一個強大的芯片制造業，這無疑是一個天真的想法，并稱台積電在美建廠也必敗。
但如今，張忠謀突然翻臉了，在接受采訪時表示支持美對國內發動芯戰，還稱國內芯制造技術落后台積電5年以上。
對于張忠謀這突如其的翻臉，但ASML卻逆勢而上，表示繼續出貨部分型號的DUV光刻機，就有外媒表示這結果真是大跌眼鏡。
因為張忠謀一直都是與美唱反調，結果突然態度大變，還是在美宣布凡是想獲得超1.5億美元補貼的企業就需要貢獻不超過75%的利潤后，看來張忠謀還是將利益放在第一位。
更何況，台積電已經在美投資400億美元建廠，此時一邊倒顯然是為了獲得更多補貼，也是為了獲得更多的芯片訂單。
