作為光刻機巨頭，ASML在出貨方面并不自由。
EUV光刻機研發制造出來后，ASML就不能自由出貨，國內廠商早就全款訂購一台，至今都沒有交付，ASML承認是因為瓦森納協定。
芯片規則修改后，ASML的DUV光刻機出貨也受到了影響，一般情況下可以出貨，但在美生產制造的DUV光刻機，出貨則需要許可。
早些時候，ASML明確表示將向國內廠商提供其能夠提供的一切技術，并對全球廠商一視同仁，還加速在國內市場的布局。
數據顯示，中芯國際一次性與ASML簽訂了價值11億美元的光刻機購買協議。
ASML也向國內廠商出貨了大量的DUV光刻機，國內市場成為ASML第三大市場，貢獻了超14%的營收。
但2022年10月份，美進一步收緊政策，限制更多半導體企業出貨，并對ASML進一步游說，希望其收緊國際主流光刻機的出貨范圍。
另外，美還聯合日、荷蘭等，希望在芯片方面進一步達成協議，這導致ASML的壓力進一步增加。
都知道，ASML主要靠出售光刻機獲得營收和利潤，先進工藝的產能過剩，成熟工藝的芯片仍很緊缺，DUV光刻機成了ASML出貨的主力設備。
于是，為了光刻機出貨，ASML也開始孤注一擲了。
據悉， ASML首席執行官溫寧克正式承認，美國主導的針對中國的半導體出口管制政策，最終會促使中國在高端芯片制造設備領域，成功研發自己的技術。
ASML溫寧克如此表態，就等于是亮明了態度，就是希望能夠繼續出貨，不希望在DUV光刻機等設備上，受到更多的限制。
當然，ASML孤注一擲，也是因為以下幾點。
首先，ASML已經制定了目標，計劃在2025年實現超300億歐元的營收，而ASML的營收主要來自DUV光刻機和EUV光刻機。
雖然EUV光刻機售價更高，但對于ASML而言，營收主要還是DUV光刻機貢獻的。
目前，全球先進工藝芯片產能已經過剩，成熟工藝芯片仍很緊缺，DUV光刻機主要就是生產制造14nm28nm等芯片。
一旦DUV光刻機出貨受到更多的約束，將會直接影響ASML的營收，甚至是影響光刻機的生產制造。
其次，國內廠商在半導體設備方面突破速度也比較快的，90nm光刻機已經實現了突破。
在DUV光刻機方面，消息稱，上海微電子28nm精度光刻機已經通過技術認證，并在光源技術方面與英諾激光展開合作，相信不久的將來就會取得突破。
這對于ASML而言，顯然是一個更大的沖擊。
因為ASML已經明確表示High NA EUV光刻機將會是最后一代，目前還沒有找到更好的技術替代，未來將會朝著更環保的方向發展。
這就意味著ASML未來一段時間就靠EUV光刻機和DUV光刻機獲得營收，而DUV光刻機又貢獻了大部分的營收，ASML自然是不想被約束。
最關鍵的一點，堆疊技術芯片、先進的封裝技術都已經出現，都能在不改變芯片制程的情況下，大幅度提升芯片性能，這相當于是降低了ASML光刻機的依賴。
更何況，光電芯片、量子芯片等已經成為研發新方向，這兩種芯片都能夠完全靠繞ASML的光刻機，否則，荷蘭也不會投資11億歐元到光電芯片領域。
在這樣的情況下，ASML自然要孤注一擲。
