國外許多供應商巨頭在半導體行業起步較早，針對芯片技術的各項研究早在半個世紀以前就開始了。不僅研究領域廣闊，而且還積累了大量專利，于是這給了西方很大的自信。
比如ASML表示提供圖紙別人也造不出頂級光刻機，還有日本光刻膠巨頭JSR也表示把論文公開中國也造不出EUV光刻膠。日本口出狂言，卻被韓國打臉了。
光刻膠是芯片關鍵原材料，在芯片光刻過程中，光刻膠起到的作用是保護襯底基座，同時把光刻機曝光的芯片圖案轉移到晶圓表面。
換句話說，光刻膠承載了芯片圖案的曝光，如果沒有光刻膠，晶圓便無法顯影。如此重要的材料，也是有制程之分的，對應光刻機制程從低到高分別為G線、I線、KrF、ArF、EUV。
從KrF光刻膠開始，市場份額，核心技術以及都掌握在日企手中，以JSR為例，這家日企生產的EUV光刻膠占據全球最大的市場份額。整體來看，日企占全球7成以上的光刻膠市場份額，已經達到了壟斷級水準。
上個世紀六十年代，日本企業就在研發光刻膠產品，到了1998年，日本更是著手研究EUV光刻膠。
大量的時間沉淀讓日本站在半導體材料行業的頂端，也給企業帶來了很大的自信，或者說是自負。JSR公開表示，中國很難開發出先進光刻膠技術，甚至把論文公開也造不出EUV光刻膠。
JSR針對的其實并非中國，而是其他沒有掌握EUV光刻膠技術的國家地區。在JSR看來，EUV光刻膠技術不是那麼好突破的。
所以從2019年開始，日本就加強了對韓國光刻膠材料的限制，多年的限制倒逼韓國加強研發，日本的口出狂言被韓國打臉了。為了擺脫對日本光刻膠的依賴，韓國廠商這些年不斷加速EUV光刻膠的研發。
就在去年12月份，韓國光刻膠廠商東進世美肯突破EUV光刻膠技術，并在三星電子生產線通過可靠性測試。這款光刻膠產品預計在今年上半年批量投產，韓國就此打破了日本光刻膠的壟斷。
不只是東進世美肯，韓國YOUNGCHANG 化學以及SK 材料這兩家公司也在研究EUV光刻膠，雖然仍在研發階段，但有了東進世美肯的成功案例，若得到韓國的扶持，另外兩家也有可能邁出最后一步。
日本廠商不看好其它國家研發EUV光刻膠，結果被韓國打臉。如此一來，日本開始著急了，要是任由韓國發展下去，不但達不到限制的效果，反而會失去一大筆生意。
于是日本正式宣布，將解除對韓國光刻膠材料的出口限制，允許韓國繼續從日本采購光刻膠材料。日本對韓國光刻膠限制已有3年多了，而且解禁的時期正好是在韓國突破EUV光刻膠之后。這說明什麼？很顯然，說明了一旦掌握了核心技術，擁有自給自足的能力，不論有怎樣的限制都沒有意義了。
韓國給我們做了一個榜樣，在被限制的這麼多年里，韓國并未放棄研發，反而加大研究力度。不僅打破了日本的壟斷，還打破了限制規則，更狠狠打臉了日本的口出狂言。
這種自研精神值得我們學習，那麼國產光刻膠處于怎樣的水平呢？國內的光刻膠廠商也有不少，比如南大光電、晶瑞電材、上海新陽等等。
其中南大光電正在研發ArF光刻膠，可應用于90nm-28nm，目前實現了少量供貨。而晶瑞電材的KrF光刻膠已經實現了量產。上海新陽的光刻膠研究似乎到了EUV的水準，當然，僅僅是研究階段。
實際的主流產品依然是KrF和ArF為主。中國光刻膠產業起步較晚，沒有先手優勢，很多專利技術，產業配套設施都需要時間積累。
別的暫且不說，單單是光刻機就需要從國外大量進口。因為研發光刻膠需要用上光刻機進行配套試驗，通過光刻機的曝光測試隨時調整產品。
韓國作為一個五千多萬人口的國家，尚且能突破EUV光刻膠技術，相信國產廠商在持續努力下，也能邁出最終一步。甚至不只是光刻膠，其余的光刻機、拋光機、清洗機、離子注入機等等半導體設備也能達到頂尖水準。
