ASML預言成現實,溫曉君:國產光刻機已就位,明年量產14nm

過人君 2022/12/05 檢舉 我要評論

在天災人禍的共同推動下,建廠造芯,儼然已經成了一種風尚。有人愁米下鍋,也有人希望掌握一切,還有一些人,只是想跟著台積電喝湯。如果將這種幾近狂熱的現象比作掘金,那麼首先被提起的,絕不會是跑在最前面的台積電,而是壟斷鏟子的ASML。這樣的機會,簡直是千載難逢。然而ASML總裁溫寧克,卻還是說出了那句不合時宜的「如果繼續禁售光刻機,中國廠商3年后就會打破壟斷」。

ASML

這句話其實挺奇怪的,從業績的角度來看,盡管計劃發貨中國的6億訂單被攪黃了,但ASML的當季營收(2021年Q1),還是實現了78.8%的增長,可見影響有限。加之凈利潤暴漲240%,更是說明產品不愁賣。回歸技術的角度,上海微電子在28nm DUV光刻機身上,已經耗費了十年時間。哪怕預言成現實,跟已經量產EUV光刻機的ASML,也還有很大的技術差距,又有什麼好忌憚的呢?

中芯國際

在回答這個問題之前,筆者需要插播兩條消息,因為答案就在其中。據AI財經6月22日消息,有業內人士爆料,被「02專項」扶持的14nm國產半導體設備,已經全部通過驗收。除此之外,國產生產線已經動工了,主導者正是中芯國際。正當筆者將信將疑,中國電子信息產業發展研究院電子信息研究所所長溫曉君,又通過環球網表示了肯定,說「國產芯片已經迎來最好的時刻,預計明年年底量產14nm」。

溫曉君

這是什麼概念?向14nm推進,意味著28nm光刻機已經就位,否則時間上就來不及。而國產代工廠的動工,意味著已經研發出或即將推出,用于14nm芯片生產的氧化擴散設備、薄膜沉積設備、包含涂膠顯影機和光刻機的光刻設備、刻蝕設備、離子注入設備、CMP拋光設備和清洗設備前道檢測設備的「代工廠八大設備」。同時,還找到了硅片、光刻膠、拋光液、光罩、電子特氣、拋光墊、高純靶材,以及濕化學品「八大材料」的穩定供應渠道。

華為

是不是很驚訝,明明還在研發28nm光刻機,怎麼一下子就打通了產業鏈呢?其實這個問題,筆者在3月8日發布的《中科院專家發聲:中國芯比大家想象中更強大》一文中說過。我們的底子,其實并不弱,華為和中微半導體還走在全球前列。只不過事發突然,才顯得有些手忙腳亂。早在半年前,北方華創、沈陽拓荊、華海清科等企業,就已經推出了14nm的氧化擴散設備、薄膜沉積設備和CMP拋光設備。剩下的,起碼也能滿足28nm芯片生產需求。

中微半導體

這也是ASML之所以分外忌憚的原因,因為中國既有全球最大的半導體市場,又是全球半導體產業鏈最完整的地區。一旦突破28nm光刻機的設備短板,很快就能打造自己的產業鏈。又因為大部分芯片分布于14nm及以上,且我們貢獻了全球超過30%的芯片需求,即便不向外出口,也會嚴重沖擊ASML的業務。因為產業鏈上的所有企業,最終還是要靠用戶養活。在可以自給自足的,高達3成的用戶群體面前,誰還能趾高氣昂?


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