首頁 » 外媒:ASML也沒有料到,EUV光刻機正在被全球「拋棄」

外媒:ASML也沒有料到,EUV光刻機正在被全球「拋棄」
2022/11/25
2022/11/25

在大眾的認知中,生產7nm及以下制程的芯片必須要用到EUV光刻機,目前先進的EUV光刻機只有ASML一家可以量產,而造成這個情況出現的主要原因就是,EUV光刻機的制備過程極其復雜,從里到外需要用到10萬多個零部件。關鍵是,這些零部件來自全球5000多家頂級供應商。

也正是因為擁有制備EUV光刻機設備的能力,ASML才能常年立足于光刻機制造領域而不敗。據相關數據顯示,ASML在高端光刻機領域的市場份額高端80%以上,EUV光刻機更是有百分之百的市場份額。

然而,行業的領先并沒有給ASML帶來豐厚的利潤,反而變成了阻礙發展的「籬笆」。要知道,ASML生產的EUV光刻機是一件全球化的產物,其中有很多技術和零部件來自美國。而自從芯片規則被修改后,ASML就失去了出貨自由的權利,尤其是不能出貨給中企,讓ASML有苦難言。

慶幸的是,ASML生產的DUV光刻機不受限制,被允許自由出貨。今年第一季度,ASML就向中國市場出貨了23台DUV光刻機。可萬萬沒想到,老美又再一次「加碼」,希望ASML收緊出貨范圍,涉及DUV光刻機,并徹底與大陸市場說「拜拜」。

盡管ASML方面表示,會持續向中國市場出貨DUV光刻機。但是在外界看來,ASML和美國就是在唱「雙簧戲」,一個唱白臉,一個唱紅臉,目的也很簡單,向大陸市場傾銷DUV光刻機等中低端光刻機,以此來擾亂國內相關企業的良性發展,比如上海微電子。

其實,自從中芯國際采購EUV光刻機無果后,全球半導體市場就迎來一場繞開EUV光刻機的浪潮,甚至連美國半導體企業也加入其中。首先是美光和Zyvex Labs這兩家美國企業,前者已經研發出可以繞過EUV光刻機的新技術——1-beta制造工藝,后者推出了高分辨率的亞納米級光刻機,也可以繞過EUV光刻機制造出0.768nm的高端芯片。

其次,作為全球第一大芯片代工廠,台積電邀請美光、三星和SK海力士等19家巨頭組建了3D Fabric聯盟。據悉,該聯盟的主要目的就是降低對EUV光刻機的依賴,而美企超威半導體也已經發布了一款基于3D封裝技術制造的GPU芯片。

最后,日本佳能和鎧俠正在研發納米壓印技術,最快到2025年就可以與ASML的EUV光刻技術一較高下。可以說,如果這項技術能夠取得突破,那麼有可能改變目前半導體行業的走向。

除此之外,中國第一條「多材料、多尺寸」的光子芯片生產線也計劃在2023年落地商用。再加上,華為先后申請的芯片疊加專利和超導量子芯片專利。關鍵是,這些新技術和設備都在脫離ASML生產的EUV光刻機設備。

值得一提的是,俄羅斯也正在計劃研發一種新型光刻機——X射線光刻機,只不過生產效率極低,不適合量產高端芯片。

也正是以上幾條重要消息,外媒才說ASML也沒有料到,EUV光刻機正在被全球「拋棄」。因為事實證明,EUV光刻機并不是唯一可以制造7nm及以下制程芯片的途徑,無論是3D封裝技術也好,還是光子芯片、量子芯片也罷,再或者是奈米壓印技術、1-Beta工藝、X射線光刻機等,只要其中有一條路被走通,那麼ASML的好日子就算到頭了。對此,你們怎麼看?


用戶評論