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ASML再遭重擊,10nm先進工藝無需光刻機,為中國芯片指明新方向
2022/08/27
2022/08/27

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近日日本方面報道指東京理科大學已將NIL工藝已突破到10nm以下,這是全球首款無需光刻機的芯片制造工藝,代表著先進工藝的另一條路線,對于以光刻機為主業的ASML來說無疑是重大的打擊。

如今ASML在光刻機市場一家獨大,占有光刻機市場超過六成的市場份額,還研發了全球最先進的EUV光刻機,而且用于2nm及更先進工藝的第二代EUV光刻機也即將研發成功,這一切都讓ASML志得意滿。

然而10多年前的ASML曾相當落魄,當時它的在光刻機市場只有可憐的市場份額,甚至連生存都成為問題,后來不得不托庇在飛利浦之下,而飛利浦對它也不看重,僅是在辦公樓旁邊劃了一塊地搭個相當于棚子的地方給ASML辦公就了事,可見當時ASML混得多麼凄慘。

不過就在ASML相當落魄的時候,台積電的技術高管林本堅研發出了浸潤式光刻機技術,ASML對此相當看重,于是兩方一拍即合,共同研發浸潤式光刻機,隨后浸潤式光刻機大行其道,而ASML也一舉翻身,到2008年的時候ASML已成為光刻機的老大。

后來ASML想出了與客戶捆綁的方式,讓三星、Intel和台積電等芯片制造企業入股,共同研發先進光刻機,由此ASML逐漸奠定了光刻機市場老大的地位,并稱霸至今,讓業界忽視了光刻機行業的其他企業。

其實在ASML成為光刻機行業老大之前,光刻機的兩強是日本的尼康和佳能,日本兩大光刻機企業曾壟斷光刻機市場多年,它們主推的是干式光刻機,依靠干式光刻機,尼康和佳能曾賺得盆滿缽滿,至于它們后來被ASML取代則是老土的商場故事。

由于尼康和佳能在干式光刻機上賺取了豐厚的利潤,它們當然希望繼續延續干式光刻機,當台積電的林本堅發明了浸潤式光刻機的時候,尼康和佳能不為了維持自己的市場地位,想方設法壓制浸潤式光刻機技術的發展,于是林本堅才找來當時相當落魄的ASML,成就了ASML后來的王者地位。

尼康和佳能雖然被ASML取代,但是它們在光刻機市場依然擁有一定的技術優勢,由此它們也在光刻機市場繼續生存了下來,如今尼康和佳能分別占有光刻機市場一成到兩成的市場份額。日前有消息指尼康計劃加大光刻機的技術研發,希望借助當前ASML無法自由出貨之機進軍中國市場,依托于中國這個全球最大的光刻機市場重振雄風。

日本企業在光刻機市場衰落后,除了繼續維持著光刻機產業之外,他們還嘗試研發了無需光刻機的NIL技術,早是數年前NIL技術就已研發成功,并被日本的鎧俠采用,目前已將NIL工藝用于生產15nm工藝的存儲芯片,日本方面認為NIL工藝至少可以推進至5nm工藝,目前突破10nm工藝就是NIL工藝的進一步升級。

日本在光刻機技術和NIL工藝技術方面的進展,對于中國芯片行業來說無疑是巨大的鼓舞,這將為中國的芯片制造提供新的選擇,同時也為中國芯片行業研發無需光刻機的制造工藝指明了方向。

一旦中國可以采購日本的光刻機,那麼ASML在光刻機行業的壟斷優勢將被打破,畢竟如今佳能、尼康等的光刻機用于生產7nm及更落后的成熟工藝應該是沒問題的,而NIL工藝對于ASML的光刻機事業來說更是毀滅性打擊,一旦先進工藝無需光刻機生產芯片,那麼ASML也就到了被終結的時候,或許此時的ASML已經瑟瑟發抖了吧?

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