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ASML不被指望了?新消息傳來,外媒:光刻機方案失效了
2022/08/30
2022/08/30

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2018年中芯國際以1.5億美元的價格向ASML公司訂購了一台彼時最為先進的EUV光刻機,意圖通過這台EUV光刻機開辟出10nm以下的芯片賽道,但是,最終這場交易并沒有順利進行, 由于后面芯片規則的改變,導致ASML公司一直拖延交付時間,如今4年時間過去,這筆訂單依舊沒有達成。

不過,早在2019年的時候,我們已經洞悉了讓ASML公司順利交付EUV光刻機基本已經是不可能了,于是乎,從2020年開始,國內開始籌備芯片產業鏈的相關計劃,而EUV光刻機的突破更是被中科院提到了最高優先級上,力求在短時間內實現國產EUV光刻機的突破, 而這也是國產芯片進入高水平發展的關鍵,畢竟當下在整個芯片制造產業鏈中,唯一還存在「短板」的就是EUV光刻機了,所以EUV光刻機一旦突破帶來的影響將會是革命性的。

不過,在我們努力攻克EUV光刻機技術的過程中,海外市場卻是在不斷的潑冷水,ASML公司的CEO溫彼得就曾多次出言打擊我們,其表示, 即便是給我們EUV光刻機的圖紙,我們也造不出來。后來其又改變說辭表示,他認為我們不太可能獨立造出頂尖光刻機,但也不是那麼絕對。

這種反復而又迷惑的說辭一時之間,讓外界對于我們突破EUV光刻機的可能也變得迷離起來, 不過,不管海外市場如何想,我們一直都是最善于從不可能實現可能的,盾構機是這樣、高鐵是這樣、特高壓是這樣,EUV光刻機也會是這樣,而這一點似乎也得到了海外市場的認可。

因為就在8月12日,海外市場新消息傳來,據悉老美方面發出了新的公告, 表示將對能承受高溫高電壓的第四代半導體材料氧化鎵和金剛石;專門用于3nm及以下芯片設計的ECAD軟件;可用于火箭和高超音速系統的壓力增益燃燒技術納入出口管制。

從這幾個技術的管制來看,似乎是想進一步阻礙我們芯片技術的發展,但是,從這份新消息中可以發現,似乎它們已經沒有更多的辦法了, 首先第四代半導體材料氧化鎵我們也有布局,并不是和海外市場有很大脫鉤,所以想要在氧化鎵技術上限制我們,難度是非常大的,甚至基本算是不可能。

而唯一還有點影響的估計就是專門用于3nm及以下芯片設計的ECAD軟件了, 這是3nm及以下高精度半導體芯片設計中不可或缺的過程,其也被稱之為「芯片之母」。

如今我們的中科院等機構也在加碼相關EDA軟件的突破工作,不過,從它們把管控降低到3nm的精度來看,似乎意味著ASML不被指望了, 因為如果說老美認為不讓ASML公司向我們出口EUV光刻機就可以阻礙我們芯片事業的發展的話,那完全沒有必要在3nm及以下精度的芯片設計軟件上再搞這麼一刀。

除非它們覺得我們在EUV光刻機事業上的突破已經成為必然,所以才會不斷增加新的關卡,因此,面對著這則新的消息,外媒方面也是傳來了新的評論表示, 「想要利用光刻機來限制芯片技術發展的方案應該是被認定要失效了」。

而事實也的確正朝著這個方向發展, 首先,在中科院之外,上海微電子的國產光刻機已經逼近28nm制程,已經能夠基本滿足除手機之外的絕大部分設備的制程需求。

其次,EUV光刻機的光源問題已經被清華大學提及過方案,中科院也在加碼,頂級學府和頂級科研單位的雙向加持,再加上如今國內越來越多的芯片專業的開設,未來我們勢必會擁有更多更強大的半導體領域的相關人才,這些后備人才都將助力我們突破EUV光刻機,這是大勢所趨。

所以道理是一樣的,也許當前我們在3nm及其以下的芯片設計軟件上也存在著「空白」和不足, 但是不出口給我們用,對我們的影響只會是一時的,隨著我們自己技術的發展,突破也只會是時間的問題。

這就像一場升級游戲,它們在不斷設計關卡給我們,而我們通過自己的努力在不斷突破層層關隘,直到徹底打通整個半導體芯片產業鏈, 屆時它們將會輸得一敗涂地,而我們也將收獲勝利者的果實。

其實,任何時候阻礙永遠不是最好的選擇,害怕別人的超越,那就只能想盡辦法去競爭,只有不斷提升自己的實力,才不會懼怕別人的超越,如果所有的心思都放在阻礙別人的超越的話,那麼自己的發展就會停滯不前,當別人拉進和你的距離時,你將脆弱不堪。

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