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EUV光刻機太難太貴,3種替代方案,正被台積電、佳能等下注
2022/11/10
2022/11/10

眾所周知,在當前的芯片制造環節中,光刻是其中一個必不可少的重要環節。

而光刻就需要用到光刻機,而7nm及以下芯片的光刻時,就需要用到EUV光刻機。EUV光刻機非常復雜,全球只有ASML一家企業能夠生產。

同時EUV光刻機成本非常高,一台EUV光刻機售價超過10億元,最新的0.55數值孔徑的EUV光刻機,價格更是超過3億美元(20億元)。

這對于一般的晶圓企業而言,是不可承受的成本,所以一直以來,業界都探討EUV光刻機的替代方案。

目前已經被確定的替代EUV光刻機的方案已經有三種,分別是1、納米壓印光刻(NIL);2、直接自組裝(DSA)光刻;3、電子束光刻(EBL)。

EBL電子束光刻機,大家可能熟悉了,前段時間美國公司Zyvex,就搞出了一台電子束光刻機(EBL),并制造了768皮米(0.768nm),不過這種光刻方式速度慢,不可能用于在規模芯片制造。

而納米壓印光刻技術,目前被佳能押注,目前佳能已經能夠提供NIL光刻機,比如東芝,就一直想用NIL光刻機來生產NAND閃存,同時在NIL光刻專利中,佳能遙遙領先。

當然,目前NIL光刻機還不能與EUV光刻機相比,NIL光刻機遠遠達不到EUV的精度,但未來能可就說不準了。

DSA光刻,目前沒有一定特定的廠商在下注,就像佳能對于NIL技術一樣。但如下圖所示,在NIL、EUV、DSA三大光刻機上,巨頭們都早已布局了。

NIL、EUV、DSA三大技術專利情況

佳能當然主要布局NIL,在NIL專利中占絕對優勢,至于EUV方面,基本上不關注,DSA光刻基本放棄。

而台積電、三星這兩大晶圓巨頭,則是NIL、EUV、DSA三大光刻技術,都是做了準備,不過EUV光刻的專利相對多一點,再是NIL,最后是DSA。

而ASML當然發力EUV,但對NIL也比較關注,專利方面,EUV有345件,而NIL上也有187件,在DSA上則只有16件。

蔡司作為EUV光刻機的重要供應鏈,主要還是發務EUV,專利上占到了353件,而NIL也有38件,DSA則為0。

很明顯,被ASML壟斷了EUV光刻機后,鑒于成本、產能等問題,EUV光刻機其實也面臨著非常大的競爭,也許現在還看不到對手,但未來還真說不準。

只是希望這些技術,我們能夠掌握一項,這樣就不用擔心在光刻機上被卡脖子了,那麼中國芯就必定會崛起,你覺得呢?


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