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被日本長期壟斷,國產14nm光刻膠開始投產,南大光電這次立功了
2022/11/19
2022/11/19

隨著世界科技技術的發展,每個國家對半導體領域的發展都十分重視,為了能夠在半導體領域拿到主動權,美日韓以及西方發達國家在很早之前就開始了這一領域的發展,所以絕大多數核心技術都被他們掌握在手中。如今,我國開始奮力發展半導體領域,卻處處都受到技術封鎖,不過這并不代表我國就跨不去這道坎兒了,目前我國正在實現半導體領域的逐一突破。光刻膠技術作為半導體領域中極其重要一環,一直以來都被日本掌握在手中,如今中企傳來好消息,國產光刻機終于開始投產。那麼光刻膠究竟是什麼?打破光刻膠壟斷為何這麼重要?

相信大家都很疑惑,到底什麼才是光刻膠?一直以來,我們只聽說過光刻機技術被國外壟斷,還從來沒聽說過光刻膠這種東西。其實,大家一直以來都將芯片制造想的太過于簡單了,以為只要擁有光刻機技術,那就能夠實現量產芯片。可是在芯片制造的背后,有著超過成千上萬種技術的支撐,比如設計芯片、封裝測試,就連一直都不起眼光刻膠材料也要掌握才能夠最終完成生產芯片。簡單來說,如果沒有光刻膠材料,即便掌握了高端EUV光刻機,也無法將制程工藝曝光在芯片上。

光刻膠又稱為光致抗蝕劑,在光刻工藝的過程中,需要涂上各種各樣的光刻膠材料,才能夠在晶圓表面上得到想要的制程工藝。而光刻膠又分為紫外正性光刻膠、紫外負性光刻膠、X-射線膠等多種光刻膠,所以想要突破光刻膠技術十分困難,多年來只有日本掌握大部分的光刻膠技術,其他發達國家掌握的只是龍鱗鳳角。台積電、三星等大型芯片代工廠都極其依賴日本光刻膠進口,我國芯片若想徹底打消被「卡脖子」的風險,必然要突破光刻膠技術。

作為中國最大的光刻膠廠商之一,南大光電這次真的立功了,據消息報道,南大光電這次突破了ArF光刻膠技術,成功對該光刻膠技術實現了破冰,如今已經開始投資量產。值得一提的是,這次的ArF光刻膠技術是應用于14nm芯片的,國內最先進的芯片制造廠商中芯國際,芯片制造實力也正處于14nm制程工藝的水平,所以南大光電所生產出的光刻膠,與中芯國際的業務十分契合,成功讓芯片國產化更近了一步。

重要的是,南大光電的研究范圍絕不止14nm光刻膠,無論是在中低端領域還是在高端工藝上,南大光電皆有所布局。所以,我們作為中國人,對南大光電一定要給予鼓勵和加油,盡管日本企業掌握著全球超過40%左右的光刻膠份額,中國企業也一定能夠逐一完成突破,在國內建立自己的生產線以及供應鏈,為芯片國產化做出貢獻。目前,我國在芯片國產化定的目標是在2025年達到70%自給率,這不僅需要國內的芯片大廠做出努力,整個國產半導體企業都要付出努力,這樣下來才能超額完成任務,早日實現芯片國產100%。

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