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新工藝出現,台積電N3被拋棄,中國芯片成為ASML的最后希望
2022/09/01
2022/09/01

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依靠壟斷光刻機市場,ASML這幾年實在是太過風光,然而如今市場出現的新動向,可能正導致ASML的光刻機面臨難以銷售的問題,而中國芯片將成為ASML銷售光刻機的最后希望。

ASML的最大客戶是台積電,這幾年台積電一直都積極采購EUV光刻機,然而近期台積電卻遭受重擊,它推出的N3工藝量產時間過晚以及工藝性能未達預期,導致蘋果放棄了N3工藝,而此前曾計劃采用的Intel早已放棄了台積電的N3工藝,如此台積電的N3工藝將只能被拋棄。

在N3工藝受挫之后,台積電如今正緊急改良N3工藝為N3E工藝,希望在明年能趕上平台的A17處理器量產時間,如此一來ASML曾期待台積電繼續大舉采用第一代EUV光刻機的希望已成空,畢竟台積電在無法確定N3E能否趕上A17處理器的量產之前是不會再大規模采購EUV光刻機的。

對ASML的另一大打擊則是日本研發的NIL工藝,據稱日本的NIL工藝已突破10nm,這就意味著在7nm工藝之前已有另一個選項,這對ASML的DUV光刻機無疑是重大打擊。

NIL工藝是日本所獨有的,在全球芯片行業,至今僅有日本研發了無需光刻機的NIL工藝,但是日本成功研發出10nm的無需光刻機的生產工藝,已為全球芯片行業提供了方向,將促使更多芯片企業研發無需光刻機的工藝,畢竟光刻機的價格實在太高了。

ASML此前對光刻機市場抱有樂觀的態度,因此它一直都在大舉擴張DUV光刻機和第一代EUV光刻機的產能,它曾推測全球芯片產能供應緊張的局面將延續三年時間,然而今年上半年芯片供給過剩的局面已出現。

如今ASML的最大客戶台積電在先進工藝研發方面遇到難題,面臨無客戶采用的狀況;其實不僅是台積電,三星的3nm工藝同樣面臨無客戶采用,因為3nm工藝的成本實在太高了,原來也就財大氣粗的Intel和蘋果計劃采用,然而如今都已成空,這就導致第一代EUV光刻機產能過剩已成定局。

至于DUV光刻機,本來還有中國這個超級大客戶,ASML的光刻機有三分之一賣給了中國,然而卻由于美國的橫加干涉,導致ASML連14nm以下的DUV光刻機都不能賣給中國芯片企業,這就導致ASML的DUV光刻機減少了一大筆訂單。

再加上如今日本開始加快推進NIL工藝,如此日本的芯片制造企業也將不會采用光刻機了。日本的NIL工藝給芯片行業的啟發是可以通過舍棄光刻機生產的方式大幅降低成本,這對于承受供給過剩的芯片制造企業來說非常重要,畢竟到了這個階段控制成本已成為最優先的選項,或許日本會將NIL工藝出售給日本以外的芯片制造企業,從而搶奪ASML的市場,造成ASML的DUV光刻機供給過剩的局面更加嚴重。

如此情況之下,中國芯片行業將成為ASML的最后選項,因為中國的芯片產能擴張頗為迫切,只要ASML能賣,那麼中國芯片行業就會買,或許等到ASML的光刻機堆積如山面臨生存問題的時候,ASML就不再顧慮美國的影響而開始向中國出售14nm以下的光刻機,乃至EUV光刻機了,畢竟ASML第二代EUV光刻機也快推出了,第一代EUV光刻機也就不屬于先進設備。

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